中国科学院团队成功研发出基于全固态激光技术的深紫外光(DUV)光源系统,可输出 193 纳米波长的相干光,理论上支撑 3 纳米芯片制造工艺。这一突破不仅标志着中国在光刻机核心技术领域迈出关键一步,更意味着全球半导体产业链的竞争格局或将迎来新变数。
所以昨天看到了激光板块异动
中国科学院团队成功研发出基于全固态激光技术的深紫外光(DUV)光源系统,可输出 193 纳米波长的相干光,理论上支撑 3 纳米芯片制造工艺。这一突破不仅标志着中国在光刻机核心技术领域迈出关键一步,更意味着全球半导体产业链的竞争格局或将迎来新变数。
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