今年以来我国在科技领域迎来重大突破。一方面，国产AI大模型DeepSeek的技术突破引发全球对国内科技产业链价值的重估，从硬件算力到终端应用的创新预期形成扩散效应；另一方面，两会提出的“新质生产力”的政策聚焦，推动低空经济、机器人等战略新兴领域成为资金布局焦点。叠加海外流动性边际改善，部分资金从估值高企的美股科技板块转向更具性价比的A股及港股市场，形成内外资共振。
事实上，在2024年我国在各个核心领域如光刻机、研磨材料、生产制造等各环节就已率先实现了重大突破。在光刻机方面，据2024年9月9号，工信部发布的《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》显示，中国的氟化氩光刻机，已经实现了套刻≤8nm制程突破。
在光刻机整机生产及交付方面，上海微电子已宣布成功研制出90nm的光刻机，在关键部件如光源生产、光学系统及双工件台（当初ASML成立伊始的优势之一就在双工件台）已然实现了100%的零部件国产，而在售价方面也比荷兰的ASML售价要低40%。
在光刻胶、掩膜版等配套材料方面，南大光电的ArF光刻胶通过中芯国际验证，可支持28nm制程。清溢光电的掩膜版良率提升至90%，成功打破美国Photronics垄断地位，实现掩膜版国产化替代。
