尼康拟于2028财年推出新款浸没式ArF光刻机。
尼康在其2025财年第三财季财报演示文稿中透露,正与合作伙伴共同开发一款兼容ASML主导的浸没式ArF(ArFi)光刻生态的新型光刻机,预计于2028财年推出。
尼康认为,随着DRAM内存和逻辑半导体向三维发展,浸没式ArF光刻需求将持续增长。为吸引更多客户,尼康计划使新设备与ASML的同类设备生态兼容,方便用户从ASML平台迁移至尼康平台。此举旨在提升尼康在全球光刻机市场的份额,特别是在浸没式ArF领域。
尼康拟于2028财年推出新款浸没式ArF光刻机。
尼康在其2025财年第三财季财报演示文稿中透露,正与合作伙伴共同开发一款兼容ASML主导的浸没式ArF(ArFi)光刻生态的新型光刻机,预计于2028财年推出。
尼康认为,随着DRAM内存和逻辑半导体向三维发展,浸没式ArF光刻需求将持续增长。为吸引更多客户,尼康计划使新设备与ASML的同类设备生态兼容,方便用户从ASML平台迁移至尼康平台。此举旨在提升尼康在全球光刻机市场的份额,特别是在浸没式ArF领域。
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