“中国永远造不出光刻机！”9年前年中科大副院长朱士尧认为美国造不出来光刻机，中国更难，而之后4年前中国工程院院士吴汉明也说造光刻机不现实，为啥这些学者对自己这么没信心？我们是真造不出吗？ 麻烦各位读者点一下右上角的“关注”，留下您的精彩评论与大家一同探讨，感谢您的强烈支持！ 几年前，中科大教授朱士尧对中国的半导体行业做出了评价。 他认为，光刻机的制造难度是原子弹的100倍。 而在技术被欧美国家全面封锁的情况下，就算是再过50年，中国都不可能造出光刻机。 作为一名中国人，朱士尧教授的这番话颇有一种“灭自己志气，长他人威风”的感觉。 一台光刻机，难道真的有这么困难吗？ 虽说这位教授说的话不好听，但是也能够从中看出，光刻机的制造技术有多精密。 很多人都不知道光刻机究竟是什么东西。 像我们使用的智能手机、平板电脑等电子产品中，都有一枚芯片。 而光刻机就是生产芯片的工具。 决定芯片先进与否的决定性因素，就是上面的电子元件，也就是晶体管。 在同样的面积上，能够刻出来的晶体管数量越多，这枚芯片也就越先进。 而光刻机能够在芯片上刻出如此精密的电子元件，靠的就是激光技术。 目前，世界上最先进的光刻机使用的光源是极深紫外光，也就是EUV。 一台EUV光刻机重达180吨，，里里外外的零件加起来有十万多件。 有些零件的精细程度，甚至连头发丝的千分之一都不到。 这些零件相互契合，是机器能够正常运转。 因为零件数量众多，因此光刻机厂家往往有数百家零件供应商。 除了EUV之外，另外一种光刻机的光源就是DUV。 这种光源要比EUV差一点。 但是就算是这样，目前能够掌握这项技术的国家，也只有荷兰和日本。 就连一向走在科技前沿的美国，在光刻机方面都需要依赖这两个国家。 毫不夸张地说，光刻机是目前世界上，最精密、最复杂机器，没有之一。 而我国之所以在光刻机领域的发展如此受限，缺少人、缺少能够制造光刻机的制造技术是一方面。 还有一个原因就是美国的封锁。 有人好奇，美国都没有掌握光刻机技术，他们凭什么封锁我们？ 这就不得不提到荷兰。 荷兰的阿斯麦公司能够生产最先进的EUV光刻机。 但是，他们并不能做到零件的自主生产。 阿斯麦公司85%的光刻机零件都需要依赖进口。 并且因为光刻机的核心专利技术掌握在美国能源部手中。 因此，荷兰是获得了美国的授权，才能够生产光刻机。 美国想要制约中国，就只需要警告荷兰即可。 至于日本，作为美国的忠实小弟，他们自然也是对美国唯命是从。 光刻机关乎到一个国家半导体领域的发展，因此多年来，我国一直在这方面进行尝试。 在很长一段时间，我国都无法在这方面取得突破。 这也就让很多人丧失了信心，认为中国无法在光刻机方面摆脱“卡脖子”的窘境。 但事实并不是这样。 2024年9月份，我国发布了一则通知。 在这则通知中，就包括光刻机。 这是一台使用DUV光源的光刻机，已经进入到了推广应用阶段。 尽管和EUV相比，DUV的性能要差一点。 但是，这却是我国在光刻机领域取得的重大突破。 这台光刻机的出现，或许能够成为我国半导体领域的重大转机。 而随着国产DUV光刻机的问世，相信之后我国也能不断突破，研究出更加先进的技术。 因此，不管是朱士尧还是吴汉明，他们说中国造不出光刻机的言论，根本就站不住脚。 或许在以前，中国确实存在这方面的困扰。 但是，从新中国成立开始，不管是原子弹、氢弹，还是载人飞船、卫星，哪一样不是在被国外“卡脖子”的情况下研制成功。 尽管光刻机的制造难度要比以往遇到的任何挑战都大，但是相信我国一定不会停下脚步，早日突破封锁。 主要信源：（中国科协之声——产业｜独立制造一台光刻机有多难？）
