标签: 光刻机
EUV光刻机巨头重大数据被泄露?辟谣!
1月8日消息，昨日一位网名为“1011”的攻击者在一个论坛表示，将泄露光刻机巨头ASML公司旗下的154个QL数据库文件，并且附带了相关说明，指导他人如何将文件转换为CSV或纯文本格式。“1011”表示泄露的数据库包含磁盘加密密钥、...
“光刻胶+光刻机”概念:最新热点的10家公司(名单)
光刻机：全球90%以上市场被ASML、Nikon、Canon垄断，但国产光刻机在28nm制程已实现突破，2025年国产28nm光刻机进入量产验证阶段。光刻胶：高端ArF/EUV光刻胶国产化率不足5%，日本企业占据全球80%以上市场份额，国内企业正通过...
投资者提问:公司跟思坦科技共同开发的航天专用无掩膜光刻机今年几月可以量产,.
公司跟思坦科技共同开发的航天专用无掩膜光刻机今年几月可以量产，公司目标是今年十台，明年有计划多少台吗，整个市场规模是多少，这个光刻机是个性化定制吗 董秘回答(思泰克SZ301568)： 尊敬的投资者，您好！思坦科技为公司的...
芯上微装2.29亿收购上海微电子旗下公司或重返上市平台定位
芯上微装2.29亿收购上海微电子旗下公司或重返上市平台定位
光刻机(胶)板块领涨A股
上证报中国证券网讯（记者刘怡鹤）1月7日上午，光刻机（胶）板块领涨A股，持续走强。截至10时44分，高盟新材、芯源微20cm涨停，普利特、彤程新材、国风新材、常青科技涨停，南大光电等多股涨超10%。
真的造出来了!中国光刻机实现了历史性突破,荷兰ASML担心的事情出现了…
国产高端光刻机再突破：上海芯上微装首台 350nm 步进光刻机，正在测试投产之中… 近十余年间，以美国为首的西方阵营在半导体领域对中国实施的技术封锁，绝非浅尝辄止的施压，而是直指产业命脉的系统性遏制。早在2018年，美国...
路透社炒作中国EUV光刻机焦虑 中方:科技自立自强兼顾开放合作
路透社一篇关于中国建造极紫外（EUV）光刻机原型机的报道引发关注，字里行间尽显对中国科技进步的焦虑情绪。事实上，中国在光刻机领域的国产化探索始终稳步推进，且坚持开放合作的发展理念，相关努力旨在融入全球创新网络，而...
第二代High-NA EUV光刻机加持,传Intel 14A拿下英伟达和AMD订单
值得注意的是，近日英特尔已宣布该其尖端制程晶圆厂已安装了ASML的第二代High-NA EUV光刻机TWINSCAN EXE:5200B，这也是目前全球最先进的光刻设备，将用于Intel 14A 节点制程的量产上。早在2023年底，ASML 向英特尔交货了首套...
美国可以不让中国进国际空间站，不让荷兰卖光刻机给中国，可以不让伊朗卖石油给中国，
美国可以不让中国进国际空间站，不让荷兰卖光刻机给中国，可以不让伊朗卖石油给中国，可以不让中国电动车进入美国市场，可以……但是不允许中国稀土不卖给美国!多年来，美国在航天、半导体、能源和汽车等领域对中国采取一系列限制措施。2011年，美国国会通过沃尔夫修正案，禁止NASA与中国开展双边合作，中国由此被排除在国际空间站项目之外，只能独立建造自己的天宫空间站。在芯片制造设备上，美国从2019年起限制极紫外光刻机出口中国，2024年进一步扩展到部分深紫外设备，荷兰政府在美方压力下多次调整对华出口许可。在能源方面，美国持续强化对伊朗石油制裁，2024年至2025年多次针对与中国企业相关的交易实施处罚，干扰正常能源贸易渠道。在新能源汽车领域，2024年5月美国将中国电动汽车关税提高到100%，直接抬高市场门槛。这些措施往往打着国家安全的旗号，影响全球正常经贸往来。稀土是高科技产业不可或缺的材料，用于制造永磁电机、精密仪器和国防装备。中国稀土产业经过多年投入，形成从开采到深加工的完整链条，全球加工能力领先。为保护资源和环境，中国对稀土实施出口许可管理，2023年底禁止相关分离技术出口，2025年4月扩展到七种中重稀土元素及其制品，10月进一步覆盖更多材料和技术，要求申报端用户和用途。这属于主权国家对战略资源的正常管理，并非针对谁，而是确保可持续利用。美国制造业对这些材料依赖大，重稀土分离几乎全靠中国供应，新能源汽车电机和军用系统离不开钕铁硼磁体。数据显示，美国稀土进口中70%以上来自中国。一旦供应受限，美国企业成本上升，产业链受影响。中国许可对合规申请仍予批准，维护全球供应链稳定。这种对比太鲜明：美国可以单方面在航天、技术、能源和汽车领域筑墙，却对中国合理保护资源横加指责。全球经济你中有我、我中有你，没有哪个国家能脱离别人独行。美国一味打压封锁，只会损害国际规则，反过来拖累自己产业。中国稀土优势来自长期积累和技术进步，管控措施推动绿色发展和价值提升。越来越多国家看清事实，选择与中国平等合作，在矿产和技术领域互利共赢。中国始终坚持开放，愿与尊重互利原则的国家深化交流，通过对话化解分歧，推动国际经贸公平公正。
日本研发出1.4nm“光刻机”但我们却不能学日本?
光刻机，绝对是最牵动网友们心的半导体设备了。原因是国产光刻机，离全球顶尖水平差太远了，应该有10年的差距，这个应该是差不多的，甚至差距会更大。更重要的是，美国卡住高端光刻机，比如EUV光刻机，高端的浸润式DUV光刻机，...
