国产电子束光刻机羲之问世，我们又在一个领域里，解决了卡脖子的问题。 杭州大学余杭量子研究院，研发出首台国产电子束光刻机，精度可达0.6纳米，线宽6纳米。这可能会把很多人吓坏了，认为可以解决光刻机批量生产的难题。 可能你搞错了，电子束光刻机由于自己的特性，不能用于大批量生产，只能进行小批量的制造。通常会被用于芯片研发初期的反复调试。对于芯片研发来讲非常重要，可以尽早发现芯片的缺陷。 电子束光刻机不需要掩膜版，电子枪发射的电子束仅在图案存在的区域刻写。 电子束光刻机被禁止出口到中国，杭州大学解决了这个难题。不仅可以解决中科大和之江实验室等科研需求，还可以解决国内芯片企业的难题。 除了被应用于半导体制造以外，还可以用于纳米线制造、量子芯片的制造以及传感器的制造等。 国产电子束光刻机问世，除了能够让国内企业买到这款设备以外，而且价格更便宜，对于国内的研发机构和企业来讲，是最优的解决方案！
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