半导体设备传来重大技术突破，明天半导体芯片板块大概率会大幅高开。
国内设备龙头北方华创近期在IEEE期刊发文，公布3D DRAM两步循环刻蚀新工艺。这项技术有望帮助长鑫存储绕开EUV光刻机限制，推动3D DRAM实现自主量产，属于国产替代实打实的利好。
如果技术能够落地量产，就能减轻我们在高端光刻机上被卡脖子的局面，国内存储芯片产能也有希望进一步释放，在全球科技竞争拿到更多主动权。
利好摆在这，明天半导体设备板块有高开预期，但也要警惕市场常见的高开低走，不能盲目追高。
半导体设备传来重大技术突破，明天半导体芯片板块大概率会大幅高开。
国内设备龙头北方华创近期在IEEE期刊发文，公布3D DRAM两步循环刻蚀新工艺。这项技术有望帮助长鑫存储绕开EUV光刻机限制，推动3D DRAM实现自主量产，属于国产替代实打实的利好。
如果技术能够落地量产，就能减轻我们在高端光刻机上被卡脖子的局面，国内存储芯片产能也有希望进一步释放，在全球科技竞争拿到更多主动权。
利好摆在这，明天半导体设备板块有高开预期，但也要警惕市场常见的高开低走，不能盲目追高。
